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      技術文章

      場發射掃描電鏡的性能特點介紹,真的很全!

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        場發射掃描電鏡搭載*的實時元素成像功能和先進的自動光學系統,實現灰色區域解析,讓您不再憂心顯微鏡性能,更加專注于研究本身。掃描電鏡具有多功能性和高質量成像性能,采用了創新性的末級透鏡設計,引入靜電式末級透鏡,支持鏡筒內高分辨率檢測,即使是針對磁性樣品也可實現成像及分析性能。在原有性能基礎之上,進一步優化了超高分辨成像能力,并且增設許多新功能提升其易用性。
       
        場發射掃描電鏡在耐用的SEM平臺上引入了智能對中技術,不再需要用戶手動進行調整操作,而且,FLASH自動執行精細調節工作,只需移動鼠標幾次,就可以完成必要的透鏡居中、消像散和聚焦矯正。此外,掃描電鏡的工作距離不再意味著低分辨成像,系統還可升級實時元素譜/圖成像功能,*改變了幾十年來傳統SEM-EDS固有的元素分析流程,將元素分析效率提升。任何用戶都可以輕松地得到的分析效果。
       
        場發射掃描電鏡的性能特點:
       
        1.全面解析:全面的納米和亞納米分辨率性能,適用于納米顆粒、粉末、催化劑、納米器件、大塊磁性樣品等材料;
       
        2.靈活性:非常靈活的處理范圍廣泛的樣品類型,包括絕緣體,敏感材料,或磁性樣品,并收集對您的應用重要的數據;
       
        3.SmartAlign技術:使用SmartAlign技術(智能調整光學系統),實現光學系統自動調整,減少維護時間;
       
        4.先進的自動化:先進的自動化包括FLASH自動圖像微調、撤銷、用戶向導、Maps成像拼接的FLASH技術;
       
        5.實時定量EDS:元素信息觸手可及,利用ColorSEM技術,提供實時元素面分布成像定量分析,結果獲取更加快速、簡便;
       
        6.標準工作流操作:內置了用戶工作流功能,無論是初學者還是經驗豐富,都能夠快速上手,并穩定獲取實驗數據。

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