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      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

      • 訪問量:459
      • 更新日期:2025-11-21
      • 產(chǎn)品介紹:賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析,Thermo Scientific™ Apreo ChemiSEM™ 場發(fā)射電 鏡是高性能與高質(zhì)量成像優(yōu)選。它集成了元素成分與結(jié)構(gòu)分析于一體的自動工作流程,讓不同經(jīng)驗的用戶都能輕松獲得高質(zhì)量數(shù)據(jù)。Apreo ChemiSEM為大型研究機構(gòu)和工業(yè)客戶提供適用于各種樣品與不同經(jīng)驗水平用戶的集成的分析技術(shù)與完整的分析結(jié)果。
      • 廠商性質(zhì):代理商

      產(chǎn)品介紹

      品牌FEI/賽默飛產(chǎn)地類別進口
      背散射電子圖像分辨率0.7nm@30KV二次電子圖象分辨率0.7nm@30KVnm
      加速電壓200 V - 30 kVkV放大倍數(shù)50-1000,000xx
      價格區(qū)間500萬-700萬儀器種類熱場發(fā)射
      應(yīng)用領(lǐng)域石油,能源,電子/電池,汽車及零部件

      Thermo Scientific™ Apreo ChemiSEM™ 場發(fā)射電 鏡是高性能與高質(zhì)量成像優(yōu)選。它集成了 元素成分與結(jié)構(gòu)分析于一體的自動工作流程,讓不同經(jīng)驗的用戶都能輕松獲得高質(zhì)量數(shù)據(jù)。

           Apreo ChemiSEM為大型研究機構(gòu)和工業(yè)客戶提供適用于各種樣品 與不同經(jīng)驗水平用戶的整體集成的分析技術(shù)與完整的分析結(jié)果。 對于有多個使用用戶和多種樣品類型的多功能實驗室來說,該系統(tǒng)的全新智能幀積分 (SFI)、自動對焦和自動消像散功能可自動優(yōu)化圖像采集參數(shù)并采集數(shù)據(jù),無需手動調(diào)節(jié)。該系統(tǒng)始終保持好狀態(tài),可隨時進行成像,讓用戶有更多時間專注于獲取所需的數(shù)據(jù)。

      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

           采用 ChemiPhase 對鋼材中的復(fù)合夾雜物進行相分析。ChemiPhase 可有效鑒定各種夾雜物,獲取各種夾雜物的成分和面積分?jǐn)?shù),還能輕松探測出意想不到的相,通過一次分析即可提取完整的信息。

      主要特點

      高分辨率成像性能:Thermo Scientific™  Trinity™  探測檢測系統(tǒng)及自動化 技術(shù)可簡化各種應(yīng)用中的數(shù)據(jù)采集工作

      *的優(yōu)化分析解決方案:TrueSightPro  EDS探檢測器、ChemiSEM技術(shù)和 TruePix EBSD 探檢測器可對樣品進行完整全面表征

      綜合工作流程:兼容MAPS 軟件、自定義腳本和 CleanConnect™, 兼 容性讓用戶可您能夠全面控制分析流程

           Apreo ChemiSEM 系統(tǒng)集成了三項有助于簡化操作并確保結(jié)果可靠性的*功能:Thermo Scientic ™ ChemiSEM ™ 技術(shù)、新型TruePix 背散射電子衍射儀 (EBSD) 以及獨特的 Thermo Scientic ™Trinity ™ 鏡筒內(nèi)探測系統(tǒng)。

      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

           ChemiSEM 技術(shù)利用全自動實時定量算法呈現(xiàn)僅通過成像無法注 意到的特征,為樣品提供更完整的信息。該功能隨時運行且易于 使用,可更快提供結(jié)果,有助于消除用戶偏差。

           TruePix EBSD 探測器與 Apreo ChemiSEM 系統(tǒng)配合使用,可擴大 應(yīng)用范圍。全新的 EBSD 軟件可用于控制該探測器,引導(dǎo)用戶完 成參數(shù)設(shè)置、數(shù)據(jù)采集以及數(shù)據(jù)處理。

           Trinity 鏡筒內(nèi)探測系統(tǒng)可實現(xiàn)高質(zhì)量的形貌、極表面和成分信息 的同步采集,而無需使用 ETD 或 BSD 探測器。

           其具有獨特的信號過濾選項,1 kV 電壓下不加電子束減速即可得到 0.9 nm 的ZUI高分辨率。

           Apreo ChemiSEM 系統(tǒng)將高分辨率成像、元素分析和結(jié)構(gòu)分析相 結(jié)合,為用戶提供分析各類型材料的強大工具。

      電子光學(xué)

      •     高分辨率場發(fā)射 SEM 鏡筒具有以下特點:

      –   高穩(wěn)定肖特基場發(fā)射槍,提供穩(wěn)定的高分辨分析束流

      –   復(fù)合末級透鏡,組合靜電透鏡、無漏磁透鏡和浸沒式磁透鏡(選配)

      –   60° 物鏡幾何結(jié)構(gòu),允許較大樣品傾斜

      –  自加熱光闌確保清潔度,無接觸式光闌切換

      • SmartAlign 技術(shù):無需用戶對中

      • 低真空模式(選配)下通過透鏡差分抽真空減小裙散效應(yīng), 實現(xiàn)準(zhǔn)確分析和ZUI高分辨率成像

      •  電子束減速功能,樣品臺偏壓范圍為 -4,000 V 至 +600 V

      • 束流連續(xù)變化,孔徑角質(zhì)優(yōu)化

      • 雙樣品臺掃描偏轉(zhuǎn)

      • 電子槍安裝和維護簡單:自動烘烤、自動啟動、無需機械對準(zhǔn)

      • PivotBeam 模式,用于選區(qū)電子通道襯度成像,也稱為“搖 擺電子束"模式(僅限于 Apreo ChemiSEM S 型)

      •  ZUI短燈絲壽命:36 個月

      ChemiSEM 技術(shù)

      • TrueSight;探測器尺寸:25 或 70 mm2

      • 能量分辨率高達(dá) 125 eV @ Mn Κα?

      • 元素探測范圍為 Be-Am

      • 輕元素靈敏度可探測至硅 (Si Lα)

      SEM-EDS 功能集成于單一用戶界面中

      • 基于項目的數(shù)據(jù)存儲

      • 項目數(shù)據(jù)樹,方便輕松管理數(shù)據(jù)

      • 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)格式

      • 專用分析模式,實現(xiàn)點、線和面掃描模式之間的無縫融合

      • 在 xT SEM 用戶界面中選擇可用的電子圖像類型

      • 一鍵生成報告

      • 和峰和逃逸峰去除

      • 自動譜峰識別

      • 合成峰與背底疊加

      • 在大范圍工作距離、束流和電子束能量范圍內(nèi)進行準(zhǔn)確定量

      • 用戶可定義選擇包含、排除或定量缺失某元素

      • 自動或用戶自定義選擇 KLM 線系進行定量分析

      • 通過數(shù)字濾波法去除背底

      • 通過ZUI小二乘濾波法擬合進行無標(biāo)樣定量分析

      • 使用 PROZA 基體校正法,實現(xiàn)優(yōu)異的輕元素定量

      • 定性和定量線掃描,可按時長或計數(shù)停止測試

      • ChemiSEM 技術(shù),結(jié)合電子圖像算法實現(xiàn)快速面定量

      • 定量面掃描始終開啟,提供譜峰剝離的定量面掃描

      • 計數(shù)面掃描,支持單元素線系選擇

      過 square kernelization 進行定量面掃描(選配)

      • 將多個面掃描圖像疊加到電子圖像上

      • 用戶自定義或自動選擇元素顏色

      • 通過導(dǎo)航蒙太奇采集和拼接多個視場

      • 兼容 MAPS 軟件,實現(xiàn)多視場的自動拼接

      • 使用點和矩形框進行譜圖提取

      • 通過靈活選擇線方向、寬度和點數(shù),從 X 射線面掃描圖像中提 取線掃描數(shù)據(jù)

      • 多譜圖歸一化對比

      • 基于 DCFI 進行面掃描的漂移校正

      • 采用化學(xué)計量法對硼化物、碳化物、氧化物和氮化物進行化合 物分析

      • ChemiPhase 通過多元統(tǒng)計分析法進行實時或離線相鑒定

      • ChemiView 實現(xiàn)不同數(shù)據(jù)類型的離線再處理和報告生成

      TruePix  EBSD 探測器

      • 混合像素化直接電子 EBSD 探測器

      • 單一探測器,由單個基于 Timepix 的模塊組成

      • 零讀取噪聲、高信號背底比

      • 零畸變

      • 單顆粒計數(shù)

      • 能量閾值化

      • 2000 FPS 幀讀取率

      • 一分鐘內(nèi)完成探測器插入、校準(zhǔn)、花樣優(yōu)化和面掃描自動設(shè)置

      EBSD 采集和數(shù)據(jù)處理軟件

      • 全面集成在線采集和離線數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)

      • 自動花樣優(yōu)化:系統(tǒng)從待采集區(qū)域隨機點采集 >20 個EBSP,實現(xiàn)優(yōu)質(zhì)的背底校準(zhǔn)

      • ZUI大曝光量測定:系統(tǒng)確定信號飽和前的ZUI大曝光量,當(dāng)曝光時間超過ZUI大曝光量進行自動幀積分

      • 自動平場校正和襯度增強(另外提供校準(zhǔn)程序)

      • 針對不同探測器位置、工作距離和樣品傾斜角度自動進行花 樣中心校準(zhǔn)

      • 可疊加任意類型的圖像

      • 晶粒尺寸直方圖

      • 噪聲去除和像素增強

      • 用戶自定義模板化報告

      • 標(biāo)定所有的七類晶系和 11 種勞厄群

      • 多相同時標(biāo)定

      • 快速傅里葉變換和花樣襯度質(zhì)量指標(biāo)

      • 低 SEM 放大倍率花樣中心校正

      • EBSP 的質(zhì)優(yōu)擬合運動學(xué)模擬與疊加

      • 歐拉圖、X/Y/Z 反極圖(軋向、法向、橫向)、歐拉取向圖、 相圖和取向差面掃描

      真空系統(tǒng)

      • 無油的真空系統(tǒng)

      • 1 × 240 l/s 渦輪分子泵

      • 1 × PVP 渦旋泵

      2 × IGP

      • 樣品倉真空度(高真空)<6.3×10-6 mbar(泵工作 12 小時后)

      • 抽真空時間:≤ 3.5 分鐘

      • 低真空模式(腔室壓力為 10-500 Pa)(選配)

      • 限壓光闌 (PLA) 自動加載裝置

      樣品臺

      •  標(biāo)準(zhǔn)多功能樣品座,可直接安裝在樣品臺上,可容納多達(dá)18 個標(biāo)準(zhǔn)樣品托(直徑為 12 mm)、三個預(yù)傾斜樣品托、 截面樣品托和兩個預(yù)傾斜 STEM 樣載條(選配)(38 ° 和 90°);安裝樣品無需使用工具

      • 每個選配 STEM 載條可容納六個 STEM 載網(wǎng)

      • 晶圓及定制樣品臺(選配)

      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

      Apreo ChemiSEM 支持多種工業(yè)應(yīng)用,包括對大和重的材料進行表征的應(yīng)用。無需切割樣品或減小樣品的尺寸,簡化了制備過程。

      系統(tǒng)控制

      • 64 位 GUI,配備 Windows 10 系統(tǒng)、鍵盤、光學(xué)鼠標(biāo)

      • 24 英寸液晶顯示屏,WUXGA 1920 × 1200(可選裝第二臺顯示器)

      • 可自定義用戶界面

      • 自動聚焦、自動消像散和自動透鏡對中功能

      • 智能幀積分(自動設(shè)置采集參數(shù))

      • 圖像配準(zhǔn)

      • 導(dǎo)航蒙太奇

      • 撤消與恢復(fù)功能

      • 操縱桿(選配)

      • 旋鈕板手動用戶界面(選配)

      圖像處理器

      • 駐留時間范圍為 25 ns - 25 ms/ 像素

      • 高達(dá) 6144 × 4096 像素

      • 文件類型:TIFF(8 位、16 位、24 位)、JPEG 或 BMP

      • 單幀或 4 視圖圖像顯示

      • SmartScan (智能掃描)模式(256 幀平均或積分、線積分 和平均、隔行掃描)

      • DCFI(漂移補償幀積分)模式

      • 數(shù)字圖像增強和降噪濾波器

      安裝要求

      (詳細(xì)數(shù)據(jù)請參閱預(yù)安裝指南)

      • 電源:

      –   電壓為 100 - 240 V AC (-6%、+10%)

      –   頻率為 50/60 Hz (±1%)

      – 功耗: <3.0 kVA(電鏡基礎(chǔ)系統(tǒng))

      • 接地電阻 <0.1 0

      • 環(huán)境:

      – 溫度為 20 ° C (±3 ° C)

      – 相對濕度低于 80%

      – 雜散 AC 磁場:線時間 20 ms(50 Hz 電源)或 17 ms(60 Hz 電源)時,<40 nT(異步)或 <100 nT(同步)

      • ZUI小門尺寸:0.9 m 寬 × 1.9 m 高

      • 重量:980 kg(系統(tǒng)控制臺)

      • 建議使用干燥氮氣進行抽真空

      • 壓縮空氣,4-6 bar,清潔、干燥且無油

      • 系統(tǒng)冷卻裝置

      • 噪聲:需現(xiàn)場勘察

      • 地面震動:需現(xiàn)場勘察

      • 可選主動減震裝置

      產(chǎn)品參數(shù)

      電子束分辨率


      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

      BD:電子束減速模式,WD:工作距離(除非另有說明,否則按質(zhì)優(yōu)工作距離提供分辨率)。默認(rèn)情況下,ZUI終安裝后系統(tǒng)驗收測試條件為:高真空 1 kV 和 30 kV 條件 ,開 啟浸沒模式(如適用)。

      電子束參數(shù)范圍

      電子束參數(shù)范圍:1 pA 至 50 nA(可選配 400 nA )

      • 加速電壓范圍:200 V - 30 kV

      • 著陸能量范圍:20 eV - 30 keV

      • ZUI大水平視場寬度:10 mm WD 時為 3 mm(ZUI小放大倍率: 29x )

      樣品倉

      • 內(nèi)寬:340 mm

      • 分析工作距離:10 mm

      • 端口:12

      賽默飛場發(fā)射掃描電鏡標(biāo)配能譜助力材料分析

      通過電子束減速 (BD) 對氧化鎂顆粒進行低 kV 表征 (500 V)。BD 可改進形貌細(xì)節(jié)并 減少荷電效應(yīng)。

      探測器

      Apreo ChemiSEM 可任意組合不同探測器或探測器的分區(qū)(選配), 可同時探測多達(dá)四種信號:

      • Trinity 探測系統(tǒng)(物鏡內(nèi)和鏡筒內(nèi))

      –   T1 分割式物鏡內(nèi)低位探測器

      –   T2 物鏡內(nèi)中位探測器

      –   T3 鏡筒內(nèi)高位檢測器(選配)

      TD:Everhart-Thornley 二次電子探測器

      • DBS:可伸縮分區(qū)式極靴下 背散射電子探測器(選配)

      • 低真空二次電子探測器(選配)

      • DBS-GAD:安裝在物鏡上的氣氛分析背散射電子探測器(選配)

      • STEM 3+ 可伸縮分區(qū)式探測器 (BF、DF、HADF、HAADF)(選配)

      紅外 CCD

      hermo Scientifc™  Nav-Cam™  導(dǎo)航相機(樣品倉內(nèi))

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